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开合桥曾使用木制桥面板、钢筋混凝土桥面板、焊接钢格式桥面板、正交异性钢桥面板等多种形式。自重是开合桥桥面板的一个关键属性，无论是竖旋式开合桥还是升降桥，桥面板的自重直接影响桥梁所需压重以及运营机械的驱动力要求。并且很多开合桥都处在腐蚀性的海洋环境中，故桥面板的耐腐蚀性也很重要。1997年，通过将管状型材进行粘结拼接制造出了第d一个拉挤型纤维增强复合材料(FRP)桥面板。
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一种铝板幕墙的节点示意1面板材料的选用单层铝合金板是均质材料，江门机械面板腐蚀加工，其弹性模量为0.7×105N/mm2、泊松比为0.33、线膨胀系数可取为2.35×10-5/℃、密度为2.71×103kg/m3。铝合金材料根据其合金成份的不同共分为9个组别，其中的6000系列(硅镁合金)主要用作幕墙的龙骨及边框型材等，而2000系列和7000系列等，一般也不用于幕墙用单层铝合金板的基材。这主要是因为:(1)这些合金经淬火和自然失效或人工失效后，机械面板腐蚀加工厂，会达到很高的强度，成型性能较差，折弯加工时容易断裂，而幕墙面板一般都需要进行折弯等成型加工
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蚀刻是制造薄膜晶体管液晶显示装置(ThinFirm Transistor Liquid CrystalDisplay，TFT_LCD)阵列基板过程中的一个重要制程。蚀刻工艺根据蚀刻剂的物理状态分为干蚀刻工艺和湿蚀刻工艺，干蚀刻工艺利用蚀刻气体进行蚀刻，湿蚀刻工艺利用蚀刻液体进行蚀刻。
现有的干蚀刻装置通常包括:真空腔(未图示)、设于所述真空腔内的上电极板(未图示)、与上电极板相对间隔设置的下电极板1、位于所述下电极板I下方用于承载下电极板I的绝缘板2、设于所述下电极板I上的静电吸附平台3、位于上、下电极板I之间的等离子体(Plasma)真空放电区(未图示)、及与上、下电极板相连的电源(未图示)，利用等离子体真空放电区内的高压电场互相作用所产生的等离子体来对设于静电吸附平台3上的晶元或玻璃基板4进行蚀刻。
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干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点:一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀去除的目的。现有技术中，高速率干法刻蚀所用等离子激发手段主要为ICCP(ImpressedCurrent CathodicProtect1n，外加电流阴极保护)，若要想进一步提高刻蚀速率，一般来说可以通过提高等离子体激励源频率来获得更高的等离子体截止密度，达到提高刻蚀速率的目的。但提高激励源频率会导致电极表面驻波等问题，导致刻蚀速率不均匀，无法大面积均匀刻蚀。
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控制面板是数控机床整体造型的重要组成部分，控制面板设计的优劣直接关系到数控机床的造型质量和宜人性.在人机工程学的基础上，从人机设计、艺术设计、硬界面和软界面设计的角度研究了数控机床控制面板的造型设计，为控制面板和数控系统的设计提供了依据.
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